檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "陳炤彰".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="流場可視化"
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在現今半導體晶片製程中,為了增加效能採用多層的電路設計,使得各層電路之平坦化製程相對重要,因此在半導體製程中化學機械平坦化(Chemical-Mechanical Planarization, CM…
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化學機械平坦化 (Chemical-Mechanical Planarization/Polishing, CMP)為半導體製造製程之一,隨著線寬持續往奈米等級發展,每層電路的平坦度變的格外重要,C…